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技術(shù)文章
| 直流電源 | 低/中頻系列 | 網(wǎng)絡(luò)匹配器 | 射頻系列 | 射頻測量儀器 |
| 直流脈沖產(chǎn)品套件 PINNACLE 系列 Pinnacle Plus+ Pinnacle3000 Pinnacle Diamond™ MDX 系列 500 W MDX 系列 1 kW 與 1.5 kW ® | PDX PEII 低頻系列 LFGS RAS Crystal | Navigator 數(shù)位字匹配系統(tǒng)網(wǎng)絡(luò) VarioMatch™ | Paramount Apex HFV Cesar HiLight Integro Ovation | GenCal |
| 優(yōu)勢 | 特點 |
| 功能廣泛靈活的直流脈沖附件系列通過允許在更大功率下運行，提高吞吐量減少靶材污染提高 10-200kW 的功率提供 2-100kHz 的固定和可變頻率 | 出色的弧控制——在很多情況下，弧*被消除。離子能量更高更大功率運行基材溫度更低靶材溫度更低工藝靈活性和寬容度系統(tǒng)整合容易雙陰極功能（Astral® 產(chǎn)品） |
| 優(yōu)勢 | 特點 |
| zui低的運行和安裝成本業(yè)界zui快的弧反應(yīng)時間可配置的弧反應(yīng)參數(shù)zui大的工藝效率的工藝控制 | zui低的存儲能量——每千瓦輸出不到 1mJ 無需調(diào)節(jié)輸出變壓器 4:1的阻抗范圍靶材處理時間——zui大限度地縮短新靶材的處理時間 ±0.1%的輸出重復(fù)性 Joule 模式——*化的能量傳送 |
| 優(yōu)勢 | 特點 |
| 更高的沉積率與產(chǎn)品率薄膜均勻性和品質(zhì)*成弧造成的基材損壞減少成本更低系統(tǒng)整合容易的工藝靈活性和寬容度重復(fù)性能在過度曲線上運行穩(wěn)定吞吐量更高便于監(jiān)控的系統(tǒng)靈活性 | 一個緊湊型封裝頻率調(diào)節(jié)范圍為 5-350kHz 占空比高達45% 電壓范圍寬——單輸出寬阻抗范圍大功率運行基材溫度低單輸出（5kW 和 10kW 型號）用于雙陰極生產(chǎn)的雙輸出（雙路5kW 型號）的弧控制反應(yīng)性濺射閉環(huán)控制 |
| 優(yōu)勢 | 特點 |
| 經(jīng)過證明的 Pinnacle 性能和可靠性zui大的工藝效率——zui低的運行和安裝成本通用性——在濺射工藝和偏壓應(yīng)用上均表現(xiàn)出色快速、可配置的弧反應(yīng)——弧損傷少的工藝控制多種顯示/控制選擇符合安全/輻射標(biāo)準(zhǔn) | 業(yè)界zui高的效率和功率因素緊湊——在一個 2-U、1/2支架封裝中，功率達 3000W 單輸出抽頭，疲憊范圍廣泛 Profibus 和 RS-232 串行通信靶材處理時間——zui大限度地縮短新靶材的處理時間僅400 VAC 輸入存儲能量低——每千瓦輸出不到6 mJ 在大于15%的功率下，輸出重復(fù)性為±0.1% Joule 模式——*化的能量傳送對輸出電平、擊穿電壓和工藝電壓的可編程限制儲存設(shè)定自動保存有 CE 標(biāo)志 |
| 優(yōu)勢 | 特點 |
| 經(jīng)過證明的 Pinnacle 性能和可靠性zui大的工藝效率——zui低的運行和安裝成本通用性——在工藝和偏壓應(yīng)用上均表現(xiàn)出色快速、可配置的弧反應(yīng)——弧損傷少眾多顯示/控制選項的工藝控制符合安全/輻射標(biāo)準(zhǔn) | 業(yè)界zui高的效率和功率因素緊湊——在一個 3-U、1/2支架封裝中，功率高達 15kW 單輸出抽頭，匹配范圍廣泛 Profibus 和 RS-232 串行通信靶材處理時間——zui大限度地縮短新靶材的處理時間水冷式僅400 VAC 輸入存儲能量低——每千瓦輸出不到6 mJ 在大于15%的功率下，輸出重復(fù)性為±0.1% Joule 模式——*化的能量傳送對輸出電平、擊穿電壓和工藝電壓的可編程限制儲存設(shè)定自動保存有 CE 標(biāo)志 |
| 優(yōu)勢 | 特點 |
| 超載內(nèi)置保護可靠性和耐用性快速反應(yīng)時間兼容性認(rèn)證 | 多級弧抑制及滅弧用戶I/O接入功率、電流或電壓調(diào)節(jié)功能 |
| 優(yōu)勢 | 特點 |
| 針對標(biāo)準(zhǔn) Z 和低 Z 應(yīng)用的兩種配置高頻開關(guān)電路從線路到負(fù)載的效率超過90% Arc-Out™ 抑制電路常用作直流磁控濺射電源 | 尺寸小輸出紋波很低可調(diào)節(jié)抑弧 |
| 優(yōu)勢 | 特點 |
| 的填隙*的表面均勻性降低了附加消耗強有力的監(jiān)控減少了無塵室空間要求廣泛的配置選擇 | 通用波形形成多達三個獨立控制的通道雙極脈沖直流電輸出，0-5kHz 高電流能力四終端控制和晶圓的電壓測量主機接口緊湊型封裝 |
| 優(yōu)點 | 功能 |
| 恒功率、電壓或電流輸出zui高的靈活性與模塊性強大的電弧控制自動制程保護裝置極寬的祖抗匹配范圍高功率密度 | 5 kW 和 10 kW 選項（主/從至多達到60 kW）內(nèi)部負(fù)載匹配（10:1 阻抗范圍）兩種不同的弧處理電路能、緊湊型水冷式設(shè)計多種可選配件符合 CE 標(biāo)準(zhǔn) |
| 優(yōu)點 | 功能 |
| 可達到目前市場上可獲得的zui低反射功率 | 空冷式設(shè)計多功能前面板脈沖模式：0到 10kHz 更完善的操作功能表 2個模擬用戶端口 RS-232 接口、以太網(wǎng)接口及 PROFIBUS 接口 |
| 優(yōu)勢 | 特點 |
| 消除了陽極消失的現(xiàn)象便于對現(xiàn)有的單陰極系統(tǒng)進行改進減小了系統(tǒng)的空間要求能夠?qū)崿F(xiàn)高速率的介質(zhì)反應(yīng)濺射確保了均勻的沉積率促進電力的有效使用，簡化維護成本低于雙陰極結(jié)構(gòu)幾乎消除了弧 | 單陰極結(jié)構(gòu)自清洗雙陽極低頻直流電源輸入基材偏壓便于改進的設(shè)計 |
| 優(yōu)勢 | 特點 |
| 更靈活產(chǎn)量更高減少當(dāng)機時間吞吐量提高 | 寬阻抗匹配低頻率正弦工藝電源大功率電源——zui大180kW 功率專為等離子環(huán)境而設(shè)計 |
| 優(yōu)勢 | 特點 |
| 加強了工藝控制zui大限度地減小反射功率加速反應(yīng)時間有助于提高工具吞吐量和產(chǎn)量 | 數(shù)碼匹配平臺多種數(shù)碼調(diào)諧算法實時過程功率和阻抗測量與分析整合式儀器簡化的設(shè)計嚴(yán)格的測試基于 PC 的監(jiān)控軟件 |
| 優(yōu)點 | 功能 |
| 擁有更強的靈活性，可在更廣的阻抗范圍內(nèi)進行功率匹配操作 Greater process productivity Easy integration and control | 空冷式設(shè)計可變真空電容器多種匹配接頭，阻抗范圍非常廣 Automatic, manual, and pre-set modes Plug-and-play operation High-performing components Reliable connectors Wide impedance range Digitally controlled tuning with inligent motor driver technology DC bias measurement circuit |
| 優(yōu)點 | 特點 |
| 憑借的功率輸送精度，實現(xiàn)的薄膜均勻度與傳送效能（throughput）的*化以更快的制程轉(zhuǎn)換來支持新一代蝕刻與沉積制程幫助實現(xiàn)無縫的制程轉(zhuǎn)換提高產(chǎn)量實現(xiàn)zui大化< | 新一代測量系統(tǒng)能夠在所有輸出范圍內(nèi)（50歐姆和非50歐姆負(fù)載）對功率和阻抗進行極的測量近乎瞬間的頻率調(diào)諧（可選）可選脈沖和同步脈沖的脈沖頻率范圍很寬廣可選的 HALO（高度、低輸出）及弧管理系統(tǒng)緊湊半機架型外觀設(shè)計 |
| 優(yōu)勢 | 特點 |
| 更高的功率密度更好的工藝靈活性產(chǎn)量提高持有成本降低簡化工藝工具整合靈活的通信 | 簡化的設(shè)計真空室安裝、框架安裝、支架安裝和鞋盒式 （shoebox） 選擇寬帶控制回路和可選的高重復(fù)率脈沖業(yè)界的弧管理符合監(jiān)管要求 |
| 優(yōu)勢 | 特點 |
| 提高了 run-to-run 準(zhǔn)確性具有通用性提高了可靠性增強了工藝靈活性降低了持有成本 | 可定制的頻率調(diào)諧參數(shù)輸出頻率范圍為1.765-2.165 MHz 3、5和8 kW 的輸出功率電平數(shù)字合成頻率輸出微處理器控制 |
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